设备描述

活性屏离子氮化炉是我公司研制的新型离子渗氮炉。活性屏技术解决了传统离子渗氮技术一些难以克服的技术问题，如：打弧、工件测温控温难、炉内工件温度均匀性差、大小工件不能混装、空心阴极效应、操作复杂等一系列问题。

本设备采用了全逆变式大功率脉冲电源、保温式全不锈钢炉体结构、炉内双测温控温系统、炉内压力双闭环自动控制系统、炉体液压自动升降移动系统、快速充氮冷却系统以及工艺参数自动控制系统等组成。主要控制系统及执行元器件采用法国、德国、美国品牌，可实现手动及全自动操作。

活性屏离子渗氮炉主要适用于小零件氮化、精密模具、高精配件等高端零件的离子氮化、离子氮碳共渗。

适用工艺：离子氮化、离子软氮化

可加工零件尺寸：Φ1000×1500mm/Φ1200×2000mm

最大装炉量：1000kg/2000kg

温度均匀性：±5℃

设备规格列表：

注：以上参数可根据顾客要求调整